SKIN RES TECHNOL
MI:2.575 H指数:69 影响指数:2.2
年文章数:1487 投稿命中率:78.0 审稿周期:平均1.67月
J INVEST DERMATOL
MI:10.508 H指数:201 影响指数:6.5
年文章数:5490 投稿命中率:27.5 审稿周期:平均1.82月
INDIAN J DERMATOL VE
MI:1.961 H指数:45 影响指数:2.9
年文章数:1010 投稿命中率:43.75 审稿周期:平均4.5月
J AM ACAD DERMATOL
MI:6.922 H指数:208 影响指数:13.8
年文章数:2704 投稿命中率:32.5 审稿周期:平均1.14月
CLIN COSMET INV DERM
MI:3.394 H指数:35 影响指数:2.3
年文章数:1079 投稿命中率:75.0 审稿周期:平均3月
LASER SURG MED
MI:5.928 H指数:112 影响指数:2.4
年文章数:2366 投稿命中率:53.57 审稿周期:平均1.71月
INDIAN J DERMATOL
MI:4.533 H指数:36 影响指数:1.7
年文章数:1526 投稿命中率:75.0 审稿周期:平均2月
J EUR ACAD DERMATOL
MI:8.496 H指数:107 影响指数:9.2
年文章数:2122 投稿命中率:31.25 审稿周期:平均2.11月
J DERMATOL SCI
MI:6.506 H指数:93 影响指数:4.6
年文章数:1514 投稿命中率:40.0 审稿周期:平均8.22月
J COSMET DERMATOL-US
MI:8.301 H指数:44 影响指数:2.3
年文章数:2729 投稿命中率:85.0 审稿周期:平均1.5月
INT J DERMATOL
MI:4.588 H指数:93 影响指数:3.6
年文章数:2715 投稿命中率:66.67 审稿周期:平均5.2月
EUR J DERMATOL
MI:3.976 H指数:71 影响指数:2.5
年文章数:1315 投稿命中率:暂无数据 审稿周期:暂无数据